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レーザー転写法

半導体製法
パターニング方法
有機ELなどの薄膜形成法には、真空蒸着法、インクジェット法、レーザー転写法(LITI)等があるが、レーザー転写法は、レーザーの光エネルギーを熱エネルギーに変換し、その熱エネルギーで有機材料を基板へ転写する方法である。高解像度のパターン形成、膜厚の均一さの確保などに適した方法である。

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