蒸着速度(蒸着レート)
蒸着速度(蒸着レート)
半導体製法
成膜方法
真空蒸着法において、有機薄膜は分子を少しずつ平らに積んでいくことによって形成されるが、その形成速度を蒸着速度と呼ぶ。単位は Å/s や nm/s で表し、一秒間にどれくらい薄膜を積層させることができるかで示す。なお、蒸着速度(蒸発速度)から、昇華熱を算定することもできる、すなわち、蒸着速度Jは次に示すクヌーセン(Knudsen)の式に従う。J=P/√(2πknMT) ここで、Pは飽和蒸気圧(昇華圧)、knはボルツマン(Boltzmann)定数、Mは分子量、Tは温度を示す。特定の真空度における蒸発速度を見積ることができれば、クラウジウス・クラペイロン(Clausius?Clapeyron)の式、ln P=A-⊿H/RT から、昇華熱が実験的に求められる。また、逆に、ある物質の分子量と昇華熱が分かれば、特定の温度における蒸気圧だけでなく、真空蒸着における蒸着速度の推定が可能となる。