物理気相成長（PVT）または物理蒸着（PVD）は、物質の表面に薄膜を形成する蒸着法のひとつで、気相中で物質の表面に物理的手法により目的とする物質の薄膜を堆積する方法である。切削工具や各種金型への表面処理や、半導体素子の製造工程に於て一般的に使用されている。物理蒸着法には、スパッタ法、イオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法、分子線蒸着法、真空蒸着法などがある。有機半導体材料の薄膜は温和な条件で成膜することが望ましく、真空蒸着法が多用されれている。また、電極については、ITOなどの金属酸化物は融点が高く蒸着法が困難であるため、スパッタ法による成膜が一般的である。