シャドーマスク

半導体製法
パターニング方法
シャドーマスクは有機ELの製造工程に用いられる部材。RGB画素位置に対応する穴が空いた薄い金属板である。例えばBlueの発光層を成膜する工程においては、GreenとRedの画素位置にはBlueの発光層が成膜されてはならない。これを実現するためには、Blue画素の位置に穴をもつシャドーマスクを所望の位置に合わせ、ガラス基板の成膜面側にできるだけ近接して配置する。その後に蒸着工程を実施すると、穴が空いている箇所には成膜面にBlue発光層が成膜され、穴が開いていない箇所にはシャドーマスク上にBlue発光層が成膜されるため、その下にあるGreen, Red画素部分には何も成膜されず、影(シャドー)となる。このように成膜とパターニングが同時にできるメリットがある。レジストを用いるパターニング工程は、全面に成膜、レジスト塗布、露光、現像、エッチングという多数の工程を要することに対して対照的である。

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