化学気相成長法(化学気相蒸着法、化学蒸着法、CVD法)

化学気相成長法(化学気相蒸着法、化学蒸着法、CVD法)

半導体製法
成膜方法
化学気相成長、化学気相蒸着または化学蒸着は、さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつで、石英などで出来た反応管内で加熱した基板物質上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基板表面あるいは気相での化学反応により膜を堆積する方法である。切削工具の表面処理や半導体素子の製造工程において一般的に使用される。

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