ガスフロー蒸着
ガスフロー蒸着
半導体製法
成膜方法
ガスフロー蒸着(GFD)は、キャリアガスを用いた有機薄膜の成膜法で、Ar 等の不活性ガスをキャリアガスとして用い、基板上に有機材料蒸気を輸送して蒸着する成膜法である。効率良く安定に材料蒸気を輸送でき、且つ、キャリアガス流量の調整により成膜速度を高精度に制御することができる。
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