ナノパターニング

半導体製法
パターニング方法
ナノパターニング技術は、半導体などの基板表面に微細なパターンを形成するリソグラフィ技術の一つで、従来と比べ、より微細なパターンを形成できる可能性があることから、電子デバイスの高機能化を実現する技術として注目されている。サブミクロンスケールでの製造技術は、半導体産業に端を発する高度なリソグラフィ法から、自己組織化をベースとするより新規な材料探索・化学的手法まで幅広い範囲に及んでいる。

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