面ソース蒸着源

半導体製法

成膜方法

						真空蒸着において、蒸着源を面状に並べた方式を面ソース蒸着源という。線形ソース方式は、基板1枚を蒸着するために、ソースの位置を複数回移動させなければならないが、面ソース方式は一度で基板全体にわたって蒸着できる。					

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