UVオゾン洗浄法は、UV（紫外）光を利用した光酸化の工程や処理を指す。基板表面等を汚染している有機物質はUV光を吸収し分解しうる。また、空気中の酸素分子は184.9nmでオゾンになり、オゾンは253.7nmの波長で分解され、同時に活性酸素を生成する。有機物質の分解生成物は活性酸素と反応し、水や二酸化炭素などの揮発性分子（ex.CO2,H2O etc.）となり、基板表面から脱離する。このメカニズムから、184.9nmと253.7nmの両波長と酸素分子の存在が必要である。